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Título:	Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial
Otros títulos:	Development and characterization of thin films deposited by the electro-deposition technique of the copper/antimony layer in the ternary compound CuSbS2 in a sequential way
Autor(es):	Mossos Pitre, Valentina
Director de tesis:	Quiñones Segura, César Augusto
Tipo de licencia:	Atribución – No comercial
Palabras clave:	Electrodeposición;Película delgada;Relación de espesores;Electrodeposición;Thin film;Thickness ratio;Tesis y disertaciones académicas
Fecha de publicación:	1-jul-2020
Editorial:	Fundación Universidad de América
Resumen:	En este proyecto de grado se desarrollaron películas delgadas del compuesto ternario CuSbS2 el cual posee una estructura calcostibita depositadas secuencialmente. De esta manera, se realizaron estudios a escala laboratorio sobre los parámetros de cada solución empleada para la elaboración de estas películas, las cuales se dividen en dos capas de diferente material y fueron depositadas por la técnica de electrodeposición secuencialmente con dos electrodos, la primera capa de cobre y la segunda de antimonio en un sistema sustrato/Mo, posteriormente se realizó la sulfurización de la bicapa obteniendo el compuesto sulfuro de cobre y antimonio. Para ello se evaluaron diferentes variables como voltaje, concentración, temperatura y pulsos, según el compuesto en torno al crecimiento de la película, su uniformidad y su composición. Para realizar la bicapa se prepararon soluciones ácidas con potencial fijo, con ayuda de la técnica de corriente pulsante (PDC).
Abstract:	In this degree project, thin films of the ternary compound CuSbS2 were developed, which have a calcostibite structure deposited sequentially. In this way, laboratory-scale studies were carried out on the parameters of each solution used to make these films, which are divided into two layers of different material and were deposited by the electrodeposition technique sequentially with two electrodes, the first layer copper and the second antimony in a substrate / Mo system, the bilayer was subsequently sulfurized obtaining the copper sulfide and antimony compound. For this, different variables such as voltage, concentration, temperature and pulses were evaluated, according to the compound around the growth of the film, its uniformity and its composition. To perform the bilayer, acid solutions with fixed potential were prepared with the aid of the pulsating current technique (PDC).
URI:	https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005
Citación:	APA 7th - Mossos Pitre, V. (2020) Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial [Trabajo de grado, Fundación Universidad de América] Repositorio Institucional Lumieres. https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005
Aparece en las colecciones:	Trabajos de grado - Ingeniería Química

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